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  • GMSD2000頭孢噻呋高剪切研磨分散機價(jià)格
    頭孢噻呋高剪切研磨分散機價(jià)格

    頭孢噻呋高剪切研磨分散機價(jià)格,一般采用研磨混合法研制頭孢噻呋混懸液,并一般采用高品質(zhì)的研磨混合設備,因為混懸液的粒徑會(huì )影響產(chǎn)品的穩定性以及藥性。采用GMSD2000系列研磨分散機進(jìn)行頭孢噻呋混懸液的研磨混合分散,一般粒徑可達DN90≤5μm,產(chǎn)品均勻度更高。并且GMSD2000系列更環(huán)節都帶有夾套,處理過(guò)程中可對物料進(jìn)行溫度控制;清洗方便,符合在線(xiàn)清洗和滅菌。

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  • GRS2000牙膏二氧化硅研磨乳化機
    牙膏二氧化硅研磨乳化機

    牙膏二氧化硅研磨乳化機設備結構與特性分析: GRS2000,即在線(xiàn)式超高速高剪切乳化分散機,基本結構包括驅動(dòng)馬達、GRS2000模塊的分散頭和冷卻罐構。驅動(dòng)馬達采用無(wú)級變速三相異步電機來(lái)帶動(dòng)皮帶工作,對混合分散速度能實(shí)現更好的操作控制,轉子線(xiàn)速度達到40m/s,具有良好的剪切力。

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  • GMD2000/4硬脂酸鋅乳液超微研磨機
    硬脂酸鋅乳液超微研磨機

    有很多應用中,200-600目的顆粒度是不夠的,需要達到1-2微米甚至更小,常用的研磨設備以及研磨方式已經(jīng)難以滿(mǎn)足此技術(shù)要求。SGN在傳統膠體磨與均質(zhì)機的基礎上,研發(fā)出了二者相結合的硬脂酸鋅乳液超微研磨機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實(shí)現無(wú)限接近。

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  • GM2000高剪切研磨機
    高剪切研磨機

    高剪切研磨機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMSD2000/4活性炭錐體磨研磨機
    活性炭錐體磨研磨機

    活性炭錐體磨研磨機工作原理:錐體磨(膠體磨)是由電動(dòng)機通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉齒(或稱(chēng)為轉子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)錐體磨(膠體磨)定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時(shí)受摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000/4臭豆腐高剪切研磨分散機
    臭豆腐高剪切研磨分散機

    臭豆腐高剪切研磨分散機具備以下特點(diǎn): 1)線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力非常強烈,通常所說(shuō)的超細濕磨 2)定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 3)定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離 4)在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 5)高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

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  • GMD2000/4無(wú)機材料納米級濕法研磨設備
    無(wú)機材料納米級濕法研磨設備

    無(wú)機材料納米級濕法研磨設備的特點(diǎn) 1更穩定 采用優(yōu)化設計理念,將的技術(shù)與創(chuàng )新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證. 2 新結構 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

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  • GMSD2000/4高品相鎳粉高剪切研磨分散設備
    高品相鎳粉高剪切研磨分散設備

    GMSD2000系列高品相鎳粉高剪切研磨分散設備是SGN公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換。

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