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  • GMD2000/4高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機
    高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機

    GMD2000系列高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微米級0.2-2μm，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合?；鞈乙悍稚⑷榛瘷C由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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