聚酰亞胺薄膜研磨分散機，上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。攪拌與研磨一體，研磨效果好，能減少物料使用量，能降低生產(chǎn)成本。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
聚酰亞胺薄膜研磨分散機
SGN研磨分散機設計*，能夠延長(cháng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調整。
聚酰亞胺薄膜是一種具有高強度、高韌性、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕等優(yōu)異性能的高分子材料，廣泛應用于電工電子行業(yè)，特別是在電子行業(yè)內更是各種高檔電子產(chǎn)品的主要基礎絕緣材料。隨著(zhù)下游電子產(chǎn)品輕、薄、短、小及高可靠性設計的發(fā)展趨勢，市場(chǎng)需求的薄膜趨向于薄型化，同時(shí)對聚酰亞胺薄膜的物理、熱、化學(xué)等性能以及色差等表觀(guān)質(zhì)量均提出了更高的要求。
目前制造聚酰亞胺薄膜的有兩種浸漬法和流延法。浸漬法就是首先將0.1mm厚的鋁箔作為底材,通過(guò)膠槽,浸漬上聚酰胺酸溶液,然后進(jìn)入上膠機的烘箱烘焙干燥,即可在鋁箔上形成聚酰胺酸薄膜。再將該薄膜連同鋁箔一道進(jìn)入高溫烘焙爐,由室溫升到高溫進(jìn)行脫水亞胺化反應。再剝離、切邊、收卷即可制得聚酰亞胺薄膜。流延方法是將合成的聚酰亞胺前驅體聚酰胺酸樹(shù)脂溶液在流涎機上流涎得到具有自支撐性的聚酰胺酸薄膜，再進(jìn)行縱橫方向拉伸、高溫亞胺化，然后熱定型處理、收卷。
聚酰亞胺薄膜研磨分散機，上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。攪拌與研磨一體，研磨效果好，能減少物料使用量，能降低生產(chǎn)成本。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
SGN高剪切研磨分散機的結構特點(diǎn)
SGN濕法研磨分散設備采用德國的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高轉速（高可達18000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉子（通常配GM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使晶種在設備的高線(xiàn)速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。
GMD2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
高剪切研磨分散機選型表:
| 研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMSD 2000/4 | 300 | 18,000 | 50 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD 2000/5 | 1000 | 13,000 | 50 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD 2000/10 | 3000 | 9,200 | 50 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 50 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 50 | 55 | DN150/DN125 |
| GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 50 | 110 | DN200/DN150 |
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 聚酰亞胺薄膜分散機 聚酰亞胺研磨分散機 高剪切研磨分散機 不銹鋼分散機 納米研磨分散機
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