SGN頭孢羥氨芐顆粒進(jìn)口研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
一、產(chǎn)品名稱(chēng)
頭孢羥氨芐進(jìn)口研磨分散機,頭孢羥氨芐研磨分散機,頭孢羥氨芐立式研磨分散機,在線(xiàn)式頭孢羥氨芐研磨分散機,管線(xiàn)式頭孢羥氨芐研磨分散機,實(shí)驗室頭孢羥氨芐研磨分散機,濕法頭孢羥氨芐研磨分散機
二、研磨分散機的結構
SGN頭孢羥氨芐顆粒進(jìn)口研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
三、頭孢羥氨芐的介紹
頭孢羥氨芐為一種黃色,結晶粉末,略可溶于水。于葡萄球菌、鏈球菌、肺炎球菌、大腸桿菌等引起的泌尿系統、呼吸道、皮膚、五官及胃腸道感染等的治療。GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
四、研磨分散機的介紹
頭孢羥氨芐顆粒進(jìn)口研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(pán)??筛鶕锪弦筮M(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設備轉速的4-5倍。
五、研磨分散機的優(yōu)勢:
更穩定 采用優(yōu)化設計理念,將的技術(shù)與創(chuàng )新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用的受控切割技術(shù),將纖維類(lèi)物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿(mǎn)足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。
六、研磨分散機的工藝應用:
食品纖維類(lèi)物料的濕法超細破碎與均質(zhì) 可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
動(dòng)物和植物組織的超細破碎及漿化加工 不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散
不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散 納米材料團聚物的強力解聚與超細分散
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 頭孢羥氨芐研磨分散機 頭孢羥氨芐立式研磨機 在線(xiàn)頭孢羥氨芐研磨機 濕法頭孢羥氨芐研磨機 立式頭孢羥氨芐研磨機